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261纳米连续激光器
采用444nm半导体激光器作为泵浦源,直接结合激光晶体和非线性光学晶体倍频技术实现261nm紫外连续激光输出。该产品具有设计简单、单横模、尺寸小等优势,相比于266nm连续激光器,具有更大的能量密度和更小的聚焦光斑,能够提供更高的光学分辨率和加工精度。
如详细了解激光器产品,请联系15162231280。
320纳米连续激光器
采用444nm半导体激光器作为泵浦源,结合激光品体和非线性光学晶体倍频技术,以声光调制为脉冲实现方式,实现320nm紫外脉冲激光输出。该产品具有设计简单、单横模、尺寸小等优势,能够提供优异的光学分辨率和加工精度。
如详细了解激光器产品,请联系15162231280。
266纳米连续激光器
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